北京
俄罗斯与白俄罗斯联合研制完成一台光刻机试验样机，可用于 130 纳米工艺芯片制造。俄罗斯第一副总理丹尼斯・曼图罗夫（Denis Manturov）在 “微电子” 论坛全体会议上对外公布该进展。此前俄方已推出 350 纳米光刻机设备，短短数月就推出 130 纳米样机，堪称该国半导体设备领域的一项重大突破。
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光刻是在半导体材料表面做出精细图形、进而形成芯片的关键工序。130 纳米属于成熟工艺节点，主要用于功率器件、传感器、汽车电子和工业控制等，并不对标当前先进逻辑芯片所用的数纳米节点。
样机已成，秋季验收，2027年可供货
俄罗斯工业贸易部部长安东·阿利哈诺夫（Anton Alikhanov）对记者表示，130 纳米光刻机的研制正接近收尾。国产准分子激光器已经完成试验，这类光源目前除俄罗斯外只有美国和日本能够生产。整机验收试验将于今年秋季启动，并计划在年底前结束。
工贸部副部长瓦西里·什帕克（Vasily Shpak）9 月 26 日接受 Business FM 采访时说，部分验收环节已经开始，同时在做工艺调试。物理样机将在今年就绪，工作将在年内交付并被主管部门接收；从明年起可以签合同、生产和向企业供货。iXBT 此前援引 CNews 的报道称，130 纳米机同样由泽列诺格勒纳米技术中心（ЗНТЦ）与白俄罗斯“平面”公司（Планар）联合研制，试验样机已在 2026 年 8 月公布，相关研制费用约 57 亿卢布，计划 2027 年开始量产供货。
28 日的全体会议上，工贸部机床和重型机械司司长瓦列里·皮文（Valery Piven）说，过去两年已完成 100 多项微电子相关研制，今年还计划再收尾 100 多项，其中就包括分辨率 130 纳米的光刻机。他同时提到，工贸部今年新启动了 10 项研制，主体与设备有关，技术要求和客户标准都在逐年收紧。
准分子激光器是配套关键
曼图罗夫把自有准分子激光器视为这台 130 纳米机的关键配套。光刻机要把电路图形投影到晶圆上，光源决定了能做到多细的线宽。阿利哈诺夫强调，准分子激光是这类设备的辐射源，俄罗斯已经完成国产激光器试验。
350纳米先铺量产，90纳米任务书已下达
130 纳米并不是俄白合作的第一台光刻机。什帕克说，350 纳米机已经签下供货合同，正在生产，头两台将交付国内企业。iXBT 9 月 11 日援引 CNews 消息称，首台量产型 350 纳米光刻机计划于 2026 年 12 月交给客户，第一家用户是隶属俄罗斯国家技术集团（Rostec）“施瓦贝”（Швабе）控股的“马佩尔”（Маппер），第二台面向“元件”集团（ГК «Элемент»）旗下的“行业解决方案”公司。
该机由 ЗНТЦ 与“平面”联合研制，曝光视场 22×22 毫米，可处理直径至 200 毫米的晶圆，用固体激光器替代传统汞灯；在 150 毫米晶圆上产能约每小时 63 片，200 毫米晶圆约每小时 43 片。基础配置报价 3.92 亿卢布（不含增值税），含加长维保和五年质保的配置为 5.61 亿卢布。报道称，同类进口设备价格要高出 40%–60%。预付一半货款后，制造周期约 18 个月。
什帕克还给出一组他引用的市场数字：目前全球约 51% 的微电子产品仍按 350 纳米及更粗的工艺生产，28 纳米以下只占约 16%，到 2035 年这一比例预计也只会升到约 17%。在他看来，350 纳米及以上对应功率电子、MEMS、传感器等成熟需求，仍是产业主体。
下一步更细的节点已经写进任务书。阿利哈诺夫说，分辨率 90 纳米的扫描式光刻机技术任务已经拟就，目前正在选定承担单位。
光罩中心与材料化学品
与此同时，俄罗斯还在推进电子束光刻。这项技术也用于制作芯片生产所需的光罩。泽列诺格勒一座科技中心已进入收尾阶段，计划在此组织光罩生产。曼图罗夫说，该项目规划分阶段掌握更先进的工艺节点，直至 28 纳米。
材料和化学品是另一条线。他表示，过去三年俄罗斯已掌握约 60 项关键物料的生产，大约同等数量的品类计划在 2029 年进入市场。
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